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竞争优势
同时服务多条下游赛道的创新能力
赛道覆盖广泛:深耕半导体制造、显示面板、先进封装、光伏制造、电子材料、高端精密制造等核心赛道,需求场景多元。
定制方案适配:针对不同赛道工艺特点,提供光刻胶树脂合成、CMP 研磨液混配、高纯化学品纯化等定制化设备解决方案。
进口替代突破:在 4nm 制程抛光材料、192 层 NAND 选择性刻蚀液等高端场景实现技术突破,打破国外垄断。
技术跨域迁移:将半导体领域的高纯工艺技术迁移至光伏、显示面板等赛道,形成技术复用优势。
同时服务多个行业需求的通用硬件产能
三地布局支撑:以上海研发中心为核心,
江苏生产基地(钣金 / CNC 加工)、浙江生产总部(洁净室)为依托,形成全流程产能体系。
标准化 + 定制化结合:通过标准化单体设备(如过滤柜、精馏机台)自由组合,适配多行业生产需求,兼顾效率与灵活性。
核心硬件全覆盖:涵盖机柜产品、电子级高纯处理单元、高纯部件(阀门 / 管道 / 泵)及四大核心工艺系统,硬件品类齐全。
洁净产能保障:浙江基地配备高标准洁净室,满足半导体 G5 级高纯化学品生产对环境的严苛要求。
不同国家和行业标准的设计和工程管理能力
国际标准认证:通过 SEMI S2(半导体设备环境健康安全)、ISO 45001 等权威认证,产品符合国际主流标准。
先进制程适配:设备可满足 G3-G5 级高纯
标准,适配 3nm 先进制程及 12 英寸晶圆制造,贴合高端行业需求。
认证周期把控:熟悉湿电子化学品行业 2-3 年的下游认证流程,能高效推进客户产线验证与批量供货。
合规体系完善:兼顾国内外客户合规要求,既能匹配国际头部企业的严苛标准,也能适配国内厂商国产化适配需求。
不同行业核心设备的设计、制造和改进能力
全链条设备布局:覆盖纯化、合成、混配、灌装、回收等核心环节,提供从原料处理到成品交付的全流程设备。
核心技术突破:在 4nm 抛光材料制备
、高纯原料再生
(利用率 92%)、选择性刻蚀液量产等领域实现技术领先。
设备性能优化:设备复用率超国际竞品 30%,稼动率达 95%,三期扩产成本递减 40%,持续提升性价比。
工艺 Know-How 积累:掌握特殊搅拌装置设计、高纯喷涂、精准温控等核心技术,形成较高技术壁垒。
覆盖项目全生命周期的数字化技术
数字化设计:采用数字化仿真技术优化设备流场、温度场分布,保障极限洁净与防污染性能。
数字化制造:通过精密加工数字化管控,实现纳米级表面处理精度(如表面电抛精度超 10nm)。
数字化交付:集成自动化控制系统,实现高纯物料输送、混配、灌装全流程数字化监控,保障交付精度。
数字化运维:依托工艺参数数据库与算法模型,提供故障预测、智能运维及产线升级服务,已锁定 1500 万升级订单。
开放的发展心态和国际化的业务团队
多元合作生态:联合北京化工大学等高校专家攻克技术难题,与客户签订排他性工艺开发协议(如安集),深度绑
定产业链。
跨国客户服务:已为巴斯夫、万华化学等国际知
名企业供货,具备服务全球客户的能力与经验。
国际化团队配置:核心成员拥有美国 IDEX、英格索兰等全球顶尖流体集团任职经历,具备国际化视野与资源。
行业标准参与:主动参与行业标准制定,强化在湿电子化学品设备领域的话语权与主导权。