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定位于高纯湿电子化学品纯度体系的源头与核心引擎,专为半导体 G5 级溶剂与功能化学品的高稳定性制备而设计,是半导体与高端材料湿法工艺中不可或缺的纯度基石设备。
核心目标:连续运行、纯度稳定性与批次一致性
☉ 高纯溶剂体系(如异丙醇,光刻胶溶剂,NMP等)
☉ 光刻 / 显影 / 剥离用溶剂
☉ CMP化学品
☉ 高纯电子化学品基液
原料溶剂 / 合成液 → 预处理 → 连续精馏机台 → 精馏纯化 → 稳定化与回流控制 → 高纯基液 → 树脂机台 → 精密过滤 → 灌装 / CDS → Fab
阿派斯特电子级连续精馏机台通过多级连续精馏与动态回流控制,对原料溶剂与合成液中的水分、低沸及高沸杂质进行精准分离,持续输出组成稳定、纯度高度一致的电子级高纯基液。
阿派斯特电子级连续精馏机台消除传统釜式精馏带来的波动与切换风险,为后续树脂纯化、精密过滤与灌装提供可长期锁定工艺窗口的高纯原液。