服务热线:021-56503672

欢迎来到APASTEC官方网站!

  • 光刻胶树脂合成系统
  • 光刻胶树脂合成系统

    • ¥0.00
      ¥0.00
商品描述

核心聚焦半导体先进制程对高分子结构一致性与超低金属杂质的严苛要求打造,专为 G5 级光刻胶树脂与关键聚合物材料定制开发。

系统在全密闭、高洁净反应与传质环境中,精确控制聚合反应、分子量分布与官能团结构,持续输出满足光刻与显影工艺窗口要求的高一致性树脂基材。


☉ ArF/KrF 光刻胶树脂

☉ BARC 树脂

☉ 功能高分子基材及各类光刻材料用聚合物的高纯合成与分子结构可控化制备


设备集成高纯反应釜、精密计量加料、温控与搅拌控制、惰性气体保护及在线监测与安全联锁等核心模块,从源头杜绝金属离子与颗粒污染;通过对反应速率、转化率与分子结构参数的闭环控制,保障树脂批次稳定性与可放大性。

可无缝对接后端萃取、精馏、树脂纯化、过滤与灌装系统,为先进节点光刻胶与功能高分子材料提供可量产、可验证的电子级合成平台。


原料储存与计量供料单元

溶剂回流与冷凝系统

树脂洗涤与萃取单元

高纯反应釜(含搅拌与温控装置)

固液分离设备(过滤或离心装置)

溶剂回收与浓缩设备

反应过程控制单元

干燥装置

成品储存单元

PLC 自动化控制与电气系统




高纯单体 / 溶剂 → 精密计量加料 → 惰性气氛反应 → 受控聚合 → 分子量调控 → 反应终止 → 粗树脂溶液 → 下游纯化与配制