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  • 光酸发生剂（PAG）纯化系统

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商品描述

阿派斯特光酸 / 单体纯化系统，核心聚焦半导体光刻材料对超低金属、超低有机杂质与分子结构稳定性的严苛要求打造，专为 G5 级光刻胶光酸（PAG）与关键单体材料定制开发。

系统通过精密萃取、连续精馏、离子交换树脂纯化与多级过滤的组合工艺，在全密闭高洁净环境中实现对杂质、金属离子与副反应物的系统性去除。


☉ 光刻胶用 PAG 光酸

☉ 关键单体与功能添加剂等对金属离子

☉ 有机杂质与反应活性高度敏感的高纯核心原料纯化


设备集成了高效分离、在线浓度与纯度控制、惰性气体保护及安全联锁等核心模块，使每一批光酸与单体在化学纯度、金属含量与反应活性方面高度一致。

可无缝对接光刻胶树脂合成与后端配液灌装系统，为先进制程光刻胶提供可验证、可量产、可长期稳定供应的电子级核心原料保障。


原料进料与缓冲储罐

纯化核心单元（如吸附柱 / 离子交换柱、精馏或萃取模块）

切向流或膜分离单元（可选）

精密输送泵组

精细过滤装置

溶剂置换与回收装置

在线监测仪表（电导率、金属离子、含水量、压力与流量）

CIP 清洗系统

安全联锁设施

    PLC 自动化控制与电气系统




粗光酸 / 单体溶液 → 预处理 → 精密萃取 → 有机杂质分离 → 离子去除 → 浓度调控 → 精密过滤 → 高纯光酸 / 单体 → 下游配制