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  • CMP研磨液回收系统

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商品描述

阿派斯特 TMAH 回收系统，专为半导体光刻与显影工艺对化学纯度、离子控制与成本可持续性的严苛要求打造，面向 G5 级四甲基氢氧化铵（TMAH）显影液的高效回收与再生进行定制化设计。

系统通过对使用后显影液中的杂质、有机残留与金属离子进行系统性去除，将有效成分重新纯化并恢复至可用工艺窗口。


半导体光刻与显影工艺中 TMAH 显影液的在线回收

再纯化与循环利用


系统在全密闭、高洁净工艺环境中，集成膜分离、离子交换、精密过滤与浓度重构等核心模块，对 TMAH 的浓度、金属含量与有机污染水平进行闭环控制，使回收液在显影性能与表面洁净度方面接近甚至达到新液标准。

通过 PLC 自动化与数据化管理，系统实现回收比例、品质状态与批次性能的全流程可追溯，为半导体 Fab 提供高纯度、高稳定性与高经济性的 TMAH 循环利用解决方案。


回收进液单元

精细过滤与膜分离装置（微滤 / 超滤 / 切向流过滤）

在线监测仪表（粒径、固含量、pH、流量与压力）

缓冲储罐

循环输送泵组

再利用配平单元

固液分离与颗粒去除设备（如旋流分离、离心或预过滤模块）

安全防护设施

PLC 自动化控制与电气系统


废显影液 → 预处理 → 悬浮物去除 → 切向流分离 → 有机残留剥离 → 离子纯化 → 浓度恢复 → 精密过滤 → 再生 TMAH → 回供显影工艺