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专为高纯湿电子化学品与半导体材料的固液分离与纯化制程打造,在全密闭、高洁净工艺环境中,将洗涤、过滤与干燥三大关键步骤集成于同一设备内,避免中间转运带来的污染与损失。为光刻胶树脂、CMP 研磨材料及各类半导体功能粉体提供稳定可靠的制备基础。
☉ 光刻胶树脂
☉ 功能聚合物
☉ PAG
☉ 电子级单体与添加剂
☉ 电子级盐类
☉ CMP 抛光粉体及高纯硅溶胶衍生材料
☉ 功能晶体及先进封装材料前驱体
反应浆料 / 析晶悬浮液 → 密闭进料 → 多级逆流洗涤 → 固液精密分离 → 残液剥离 → 低金属干燥 → 电子级固体产品 → 分装 / 下游工艺
阿派斯特洗涤、过滤、干燥三合一单元通过精准控制洗涤效率、过滤精度与干燥条件,使固体产物中的溶剂、杂质与残留离子被充分去除,持续输出低金属、低残留、高一致性的电子级固体材料。