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  • 电抛反应釜
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商品描述

半导体与电子化学品:双氧水、有机溶剂等超纯湿电子化学品的反应合成、混配、纯化、储存和输送系统。


☉ 核心技术与表面处理 - 基材:316L不锈钢

☉ EPW工艺:电解抛光(ElectroPolishing)

☉ 表面粗糙度:Ra ≤ 0.1 μm,甚至更低

☉ 耐高温性:可在-40°C至700°C的温度范围内长期使用